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【科创定位】688079美迪凯专利技术保护趋势

浏览: 发表时间:2022-11-10 14:24:27

688079美迪凯专利技术保护趋势

202132日上市,688079美迪凯,杭州美迪凯光电科技股份有限公司目前市值39.77亿元,2022年三季度营业收入3.237亿元,净利润0.088亿元,研究经费0.5333亿元。

主营产品:半导体零部件及精密加工解决方案、生物识别零部件及精密加工解决方案、影像光学零部件、ar/mr光学零部件精密加工解决方案、半导体零部件及精密加工服务、生物识别零部件及精密加工服务、ar/mr光学零部件精密加工服务

1)实用专利:一种方形切割平台  申请号:CN202221292632.6  申请日2022年527 技术效果:该方形切割平台的基体和基面的截面四边为方形设置,便于进行方形产品切割,切割方形产品时切割台面利用率高,节省辅料;方形铁环与基体突出台面通过强磁体吸附,安装和拆卸方便;突出台面间镂空区的设置,使方形铁环的拆卸和安装对位更为方便,大大提升加工效率。

2)发明专利:一种晶圆光学薄膜图形化加工高效去胶的工艺方法  申请号:CN202210077283.4  申请日2022年124 技术效果:本发明采用剥离胶带粘贴的方式将沉积在光刻胶上的光学薄膜去除掉,裸露出来的光刻胶在去胶过程中直接与去胶液接触,更容易被去除,从而大幅度缩短了去胶时间,提高了晶圆光学薄膜图形化加工效率。解决传统的去胶liftoff方式由于胶层上方有光学薄膜的阻挡,去胶液无法直接接触到光刻胶,存在去胶困难,时间长,效率低的问题。

3)发明专利:一种颜色膜膜系设计镀膜工艺  申请号:CN202111466959.0  申请日2021123 技术效果:本发明采用了金属与氧化物结合,利用金属中间层的吸收特性,可以做到除了需要透过的波段,其余可见光波段均截止,透过率T%<1%;由于金属中间层的加入,膜层牢固度的可靠性好,测过90℃水煮90min后用3M胶带拉膜无脱膜,光谱无影响;稳定性好,不存在挥发的问题,可选任意可见光波长位置,成本较低,且价格稳定。

4)发明专利:一种晶圆表面吸收式IR镀膜工艺  申请号:CN202111053917.4  申请日202199 技术效果:本工艺路线具有更优越的实用价值;晶圆表面经过电路及光路层结构加工后表面存在高度差,对旋涂要求较高,本发明工艺可较好的去除凹槽中的油墨残留,且光路层表面油墨分布较均匀,膜厚散差控制在0.2μm左右。

5)发明专利:一种长条形光学玻璃多面图形化光学镀膜加工工艺  申请号:CN202110958176.8  申请日2022年820 技术效果:本发明工艺选用保护油墨采用丝印方式搭配镀膜工艺完成片状图形化镀膜加工,结合高温发泡胶带粘合工艺对片状镀膜品进行粘合从而完成外形尺寸的条形加工,再同样经丝印保护油墨镀膜完成单条另外两面图形化镀膜加工,针对图形对位精度可通过激光切割十字标记进行丝印保护油墨对位确认。

6)发明专利:一种光学镀膜半导体晶圆嫁接方法及光学镀膜半导体  申请号:CN202110842610.6  申请日2021726 技术效果:该方法获得的光学镀膜半导体在竖直方向上,IRC层的远离基板的边缘与涂胶背胶面的边缘不重叠,在保证其正常的电性能的前提下附加光学性能,附加的光学性能使产品精度大大提高,具有很高的推广价值。

7)实用专利:切割机方形环状治具  申请号:CN202121433682.7  申请日2021624 技术效果:本实用新型中,在需要对陶瓷基块更换时,转动连接块,连接块带动活动螺纹杆在螺纹孔的内部转动,活动螺纹杆在转动的时候向上运动,活动螺纹杆在固定套筒的内部转动且顶着固定套筒向上运动,固定套筒顶着挤压板,挤压板发生弹性变形来对放置槽内部的陶瓷基块进行挤压,使陶瓷基块自放置槽的内部向上移动,来方便取出,来避免了在取出陶瓷基板的过程中由于陶瓷基板的重量导致陶瓷基板发生倾斜使陶瓷基板卡在卡槽的内部,不方便取出的情况发生。

8)实用专利:一种贴膜治具  申请号:CN202121417099.7  申请日2021624 技术效果:本实用新型中,当需要对陶瓷基板进行更换时,双手握着固定块,把手指插入放置孔的内部来更好的对固定块来施加力,向上移动固定块,固定块带动连接块向上移动,连接块在活动槽的内部带动陶瓷基板向上移动,使陶瓷基板保持着水平向上的运动,来避免了在取出陶瓷基板的过程中由于陶瓷基板的重量导致陶瓷基板发生倾斜使陶瓷基板卡在卡槽的内部,不方便取出的情况发生。

9)发明专利:一种透镜薄膜点胶旋涂一体的涂布工艺  申请号:CN202110682838.3  申请日2021621 技术效果:(1)、本发明对透镜的凹面和凸面设计不同的加工工艺,以此来提高产品良率;(2)、透镜的凹面旋涂前将透镜根据透镜本身的大小形状摆放夹具上的距离转轴轴心等距的同心圆位置,以此来保证旋涂过程中油墨所受到的力与运动状态是相近的,保证同一批产品凹面涂布的均一性,使用夹具进行涂布,一次性加工多个透镜,提升透镜加工效率.

10)实用专利:一种晶圆涂布夹具  申请号:CN202120862536.X  申请日2021425 技术效果:本实用新型在定位夹具承载平台设置定位夹具,圆形的定位夹具可依据晶圆尺寸设计,对不同尺寸的晶圆具有高度适用性,定位夹具设计简单,制作成本低,不同尺寸晶圆只需更换定位夹具即可使用,不需重新制作整个晶圆涂布夹具,成本和效率大大提高,适合推广应用;定位夹具的设置又可阻止作业时油墨离心甩出去撞到机器后反弹回来对晶圆产品背面造成污染。  

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【科创定位】688079美迪凯专利技术保护趋势
688079美迪凯专利技术保护趋势2021年3月2日上市,688079美迪凯,杭州美迪凯光电科技股份有限公司目前市值39.77亿元,2022年三季度营业收入3.
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