泛半导体行业用氨气处理技术导则
Technical guideline for ammonia exhaust gas treatment in the pan semiconductor industry
国家标准项目 修订 推荐性
国家标准项目《泛半导体行业用氨气处理技术导则》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC1(全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
主要起草单位 金宏气体股份有限公司 、昊华气体有限公司西南分公司 、杭州新世纪混合气体有限公司 、西南化工研究设计院有限公司 。
基础信息
- 制修订
- 修订
- 项目周期
- 12个月
- 公示开始日期
- 2026-09-20
- 公示截止日期
- 2026-10-20
- 标准类别
- 方法
- 国际标准分类号
- 71.100.20
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会
- 主管部门
- 国家标准委
起草单位
范围和主要技术内容
本文件规定了泛半导体行业用氨气尾气的四级吸收处理工艺的工艺流程、技术要求及安全要求。 本文件适用于泛半导体行业生产过程中产生的氨气尾气的处理。 本次修订的主要技术内容有: ——更改了名称; ——更改了范围(见第1章,2017年版的第1章); ——删除了缩略语(2017年版的第3章); ——增加了术语和定义(见第3章); ——更改了基本要求(见第4章,2017年版的第4章); ——更改了工艺技术(见第5章,2017年版的第5章); ——更改了技术要求(见第6章,2017年版的第6章); ——更改了安全要求(见第7章,2017年版的第7章)。





