国家标准项目《半导体制造用气体处理技术导则》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC1（全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会）执行 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 西南化工研究设计院有限公司 、联雄投资（上海）有限公司 、液化空气（中国）投资有限公司 、空气化工产品（中国）投资有限公司 、新加坡亚洲工业气体协会上海代表处 、林德（中国）投资有限公司 、杭州杭氧电子气体有限公司 、昊华气体有限公司西南分公司 。

本文件规定了半导体制造用气体处理工艺的基本要求、工艺技术、技术要求及安全要求。 本文件适用于半导体制造用气体的处理。 本次修订的主要技术内容有： ——更改了名称； ——更改了范围（见第1章，2017年版的第1章）； ——更改了术语和定义（见第3章，2017年版的第2章）； ——删除了缩略语（2017年版的第3章）； ——更改了基本要求（见第4章，2017年版的第4章）； ——更改了工艺技术（见第5章，2017年版的第6章）； ——更改了技术要求（见第6章，2017年版的第7章、第8章、第9章）； ——增加了安全要求（见第7章）； ——删除了排放的分类与要求（2017年版的第5章）； ——删除了紧急排放（2017年版的第8章）； ——删除了其他方法（2017年版的第10章）。