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气体中颗粒含量的测定 光散射法 第1部分:管道气体中颗粒含量的测定

浏览: 发表时间:2026-09-29 15:26:00

国家标准项目《气体中颗粒含量的测定 光散射法 第1部分:管道气体中颗粒含量的测定》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC1(全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会)执行 ,主管部门为国家标准委。

主要起草单位 上海市计量测试技术研究院有限公司 、上海云必科技有限公司 、昊华气体有限公司西南分公司 、西南化工研究设计院有限公司 。

基础信息

制修订
修订
项目周期
12个月
公示开始日期
2026-09-20
公示截止日期
2026-10-20
标准类别
方法
国际标准分类号
71.100.20
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会
主管部门
国家标准委

起草单位

与国家标准同步制定外文版

编号语种翻译承担单位国内外需求情况
1EN上海市计量测试技术研究院有限公司光散射法已成为目前国内外测定气体中颗粒含量的主要方法。为提升电子气体科技水平发展,扩大中国标准的影响力,现申请立项制定《气体中颗粒含量的测定 光散射法 第1部分:管道气体中颗粒含量的测定》国家标准英文版

范围和主要技术内容

本文件规定了用光散射法测定管道气体中颗粒含量的测定方法,描述了方法原理、试验条件、试剂与材料、仪器设备、采样、试验步骤、精密度和测量不确定度、质量保证和控制、试验报告等。 本文件适用于半导体、生物医药、精密加工等高新技术制造业管道用气,包括氢、氧、氮、氦、氖、氩、氪等气体及其混合气体的颗粒含量的测定。本文件不适用于瓶装气体、以液相状态存在的气体,以及含有油污或腐蚀性物质的气体。 本部分适用于颗粒直径为0.1μm~10μm的测定。 本次修订的主要技术内容如下: ——更改了范围(见第1章,2011年版的第1章); ——更改了规范性引用文件(见第2章,2011年版的第2章); ——更改了术语和定义(见第3章,2011年版的第3章); ——更改了方法原理(见第4章,2011年版的第4章); ——增加了试验条件的要求(见第5章); ——增加了试剂与材料的要求(见第6章,2011年版的6.1); ——更改了仪器设备的要求(见第7章,2011年版的第5章和第7章); ——更改了采样的要求(见第8章,2011年版的6.2和6.3); ——删除了结果判别的要求(2011年版的8.2) ——更改了试验步骤的要求(见第9章,2011年版的6.4); ——增加了数据处理的要求(见第10章,2011年版的8.1); ——增加了精密度和测量不确定度的要求(第11章、附录A); ——增加了质量保证和控制的要求(见第12章); ——更改了试验报告的要求(见第13章,2011年版的第10章)。


气体中颗粒含量的测定 光散射法 第1部分:管道气体中颗粒含量的测定
气体中颗粒含量的测定 光散射法 第1部分:管道气体中颗粒含量的测定Determination of particle in gases Light-scatte
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